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Eksma FEMTOLINE激光諧波分離器

簡要描述:Eksma FEMTOLINE激光諧波分離器
諧波分離器是二向色分束器,可反射一個波長并透射另一個波長。對于感興趣的波長,反射率優于99.5%,對于被拒絕的波長,透射率至少為90%。諧波分離器的背面鍍有防反射鍍膜。如果可能,請使用較短的波長進行反射,并使用較長的波長進行透射,以提高反射/透射系數。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-19
  • 訪  問  量:1021

詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE激光諧波分離器




Eksma FEMTOLINE激光諧波分離器

諧波分離器是二向色分束器,可反射一個波長并透射另一個波長。

產品介紹

Ø提供在表面平坦度為λ/ 10的Ø0.5或1英寸UVFS基材上

諧波分離器是二向色分束器,可反射一個波長并透射另一個波長。對于感興趣的波長,反射率優于99.5%,對于被拒絕的波長,透射率至少為90%。諧波分離器的背面鍍有防反射鍍膜。如果可能,請使用較短的波長進行反射,并使用較長的波長進行透射,以提高反射/透射系數。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

產品型號

諧波分離器是二向色分束器,可反射一個波長并透射另一個波長。對于感興趣的波長,反射率優于99.5%,對于被拒絕的波長,透射率至少為90%。諧波分離器的背面鍍有防反射鍍膜。如果可能,請使用較短的波長進行反射,并使用較長的波長進行透射,以提高反射/透射系數。

型號

材料

直徑

厚度

反射波長

透射波長

AOI

041-2800

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@780-820nm

042-2800

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@780-820nm

045-2800

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@780-820nm

041-2805

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@780-820nm

45°

042-2805

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@780-820nm

45°

045-2805

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@780-820nm

45°

041-2400

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@390-410nm

042-2400

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@390-410nm

045-2400

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@390-410nm

041-2405

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@390-410nm

45°

042-2405

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@390-410nm

45°

045-2405

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@257-275nm

T>95%@390-410nm

45°

041-2480

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>90%@400+800nm

042-2480

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>90%@400+800nm

045-2480

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@257-275nm

T>90%@400+800nm

041-2485

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>90%@400+800nm

45°

042-2485

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@257-275nm

T>90%@400+800nm

45°

045-2485

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@257-275nm

T>90%@400+800nm

45°

041-4800

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@390-410nm

T>95%@780-820nm

042-4800

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@390-410nm

T>95%@780-820nm

045-4800

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@390-410nm

T>95%@780-820nm

041-4805

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@390-410nm

T>95%@780-820nm

45°

042-4805

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@390-410nm

T>95%@780-820nm

45°

045-4805

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@390-410nm

T>95%@780-820nm

45°

041-0840

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@800nm

T>93%@400nm

042-0840

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@800nm

T>93%@400nm

045-0840

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@800nm

T>93%@400nm

041-0845

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@800nm

T>93%@400nm

45°

042-0845

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@800nm

T>93%@400nm

45°

045-0845

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@800nm

T>93%@400nm

45°

041-3130

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@1000-1060nm

042-3130

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@1000-1060nm

045-3130

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@1000-1060nm

041-3135

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@1000-1060nm

45°

042-3135

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@1000-1060nm

45°

045-3135

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@1000-1060nm

45°

041-3450

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@500-530nm

042-3450

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@500-530nm

045-3450

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@500-530nm

041-3455

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@500-530nm

45°

042-3455

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@500-530nm

45°

045-3455

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@333-353nm

T>95%@500-530nm

45°

041-3530

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>90%@515+1030nm

042-3530

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>90%@515+1030nm

045-3530

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@333-353nm

T>90%@515+1030nm

041-3535

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>90%@515+1030nm

45°

042-3535

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@333-353nm

T>90%@515+1030nm

45°

045-3535

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@333-353nm

T>90%@515+1030nm

45°

041-5130

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@500-530nm

T>95%@1000-1060nm

042-5130

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@500-530nm

T>95%@1000-1060nm

045-5130

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@500-530nm

T>95%@1000-1060nm

041-5135

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@500-530nm

T>95%@1000-1060nm

45°

042-5135

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@500-530nm

T>95%@1000-1060nm

45°

045-5135

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@500-530nm

T>95%@1000-1060nm

45°

041-6510

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@1030nm

T>93%@515nm

042-6510

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@1030nm

T>93%@515nm

045-6510

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@1030nm

T>93%@515nm

041-6515

UVFS

ø 12.7 mm

3 mm

R>99.5%@1030nm

T>93%@515nm

45°

042-6515

UVFS

ø 25.4 mm

3 mm

R>99.5%@1030nm

T>93%@515nm

45°

045-6515

UVFS

ø 50.8 mm

8 mm

R>99.5%@1030nm

T>93%@515nm

45°

 

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/ 10(在633 nm下)

S1表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面平整度

λ/ 10(在633 nm下)

S2表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

平行性

<30弧秒

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

鍍膜

技術

電子束多層電介質

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

鍍膜表面平整度

透明孔徑下633 nm處的λ/ 10

背面防反射鍍膜

AOI 45°, R<0.5%
AOI 0°, R<0.25%

激光損傷閾值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

諧波分離器是二向色分束器,可反射一個波長并透射另一個波長。對于感興趣的波長,反射率優于99.5%,對于被拒絕的波長,透射率至少為90%。諧波分離器的背面鍍有防反射鍍膜。如果可能,請使用較短的波長進行反射,并使用較長的波長進行透射,以提高反射/透射系數。

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