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Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4

簡要描述:Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4
薄透鏡,具有333-353 nm范圍的防反射鍍膜。透鏡可以提供電子束(+ AR343)或IBS(+ AR343HT)鍍膜。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-17
  • 訪  問  量:963

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma  FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4


Eksma  FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4

薄透鏡,具有333-353 nm范圍的防反射鍍膜。透鏡可以提供電子束(+ AR343)或IBS(+ AR343HT)鍍膜。

產(chǎn)品介紹

Ø防反射鍍膜的AR / AR @ 333-353 nm

Ø非常薄:邊緣厚度從0.5到1.9mm不等

Ø中心厚度從1到3mm不等

Ø平凸或平凹類型

Ø也可以不加鍍膜或帶有不同的增透膜

Femtoline Thin AR在333-353 nm透鏡上鍍膜,適用于飛秒Ti:Sapphire激光脈沖的應用。 所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti:藍寶石激光脈沖的低群延遲色散。

產(chǎn)品型號

平凹透鏡(ø12.7 mm)

型號

材料

類型

直徑

CT

ET

焦距@ 800NM

反射

112-1104ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

3.5 mm

-20 mm

R<0.5%

112-1104ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

3.5 mm

-20 mm

R<0.2%

112-1106ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

2.5 mm

-30 mm

R<0.5%

112-1106ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

2.5 mm

-30 mm

R<0.2%

112-1108ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

2.1 mm

-40 mm

R<0.5%

112-1108ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

2.1 mm

-40 mm

R<0.2%

112-1109ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.9 mm

-50 mm

R<0.5%

112-1109ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.9 mm

-50 mm

R<0.2%

112-1110ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.7 mm

-60 mm

R<0.5%

112-1110ET+AR800HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.7 mm

-60 mm

R<0.2%

112-1112ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.5 mm

-75 mm

R<0.5%

112-1112ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.5 mm

-75 mm

R<0.2%

112-1113ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.5 mm

-80 mm

R<0.5%

112-1113ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.5 mm

-80 mm

R<0.2%

112-1115ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.4 mm

-100 mm

R<0.5%

112-1115ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.4 mm

-100 mm

R<0.2%

112-1117ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.3 mm

-125 mm

R<0.5%

112-1117ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.3 mm

-125 mm

R<0.2%

112-1119ET+AR343

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.2 mm

-150 mm

R<0.5%

112-1119ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

12.7 mm

1.0 mm

1.2 mm

-150 mm

R<0.2%

平凹透鏡(ø25.4 mm)

型號

材料

類型

直徑

CT

ET

焦距@ 800NM

反射

112-1205ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

5.4 mm

-50 mm

R<0.5%

112-1205ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

5.4 mm

-50 mm

R<0.2%

112-1209ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

4.0 mm

-75 mm

R<0.5%

112-1209ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

4.0 mm

-75 mm

R<0.2%

112-1211ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

3.3 mm

-100 mm

R<0.5%

112-1211ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

3.3 mm

-100 mm

R<0.2%

112-1215ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

3.0 mm

-125 mm

R<0.5%

112-1215ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

3.0 mm

-125 mm

R<0.2%

112-1217ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.7 mm

-150 mm

R<0.5%

112-1217ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.7 mm

-150 mm

R<0.2%

112-1219ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.4 mm

-200 mm

R<0.5%

112-1219ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.4 mm

-200 mm

R<0.2%

112-1221ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.3 mm

-250 mm

R<0.5%

112-1221ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.3 mm

-250 mm

R<0.2%

112-1223ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.1 mm

-300 mm

R<0.5%

112-1223ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

2.1 mm

-300 mm

R<0.2%

112-1233ET+AR343

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

1.9 mm

-500 mm

R<0.5%

112-1233ET+AR343HT

UVFS

pl/cv

25.4 mm

1.5 mm

1.9 mm

-500 mm

R<0.2%

 

 

材料

UVFS

 

表面質(zhì)量

40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

 

通光孔徑

90% of the diameter

 

直徑公差

+0.00, -0.12 mm

 

厚度公差

±0.2 mm

 

表面不規(guī)則

λ/8
@ 633 nm

 

同心度

3 arcmin

 

近軸焦距

±2% @ 800 nm

 

 

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

損壞閾值

100 mJ / cm2、50 fsec脈沖,典型343 nm

鍍膜表面平整度

通光孔徑下633 nm處的λ/ 10

入射角

0度

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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